|
পণ্যের বিবরণ:
|
| পণ্যের নাম: | সিভিডি রুক্ষ হীরা | উৎপত্তি স্থল: | চীন |
|---|---|---|---|
| ডায়মন্ড টাইপ: | সিন্থেটিক (ল্যাব তৈরি) | ডায়মন্ড আকৃতি: | বর্গক্ষেত্র আকৃতি |
| ডায়মন্ড কালার: | FGH | আকার: | 3-4.99 ক্যারেট |
| ডায়মন্ড স্বচ্ছতা: | VS+ | ব্যবহার: | গয়না |
| লক্ষণীয় করা: | 4.99ct Cvd রাফ ডায়মন্ড,3ct রুক্ষ সিভিডি হীরা,3ct Cvd রাফ |
||
চাষকৃত হীরা, যা সিন্থেটিক হীরা নামেও পরিচিত, পরীক্ষাগারে তৈরি হয়, মানুষ গবেষণাগারে প্রাকৃতিক হীরা দ্বারা গঠিত উচ্চ তাপমাত্রা এবং উচ্চ চাপের পরিবেশ পুনরুদ্ধার করতে উন্নত প্রযুক্তি এবং সরঞ্জাম ব্যবহার করে এবং হীরার প্রাকৃতিক স্ফটিককরণ প্ররোচিত করতে ছোট হীরার বীজ ব্যবহার করে। , যাতে পৃথিবীর পৃষ্ঠে প্রাকৃতিক হীরার মতো একই ভৌত, রাসায়নিক এবং অপটিক্যাল বৈশিষ্ট্য সহ হীরা চাষ করা যায়।
বর্তমানে, হীরা চাষের উত্পাদন পদ্ধতিগুলি প্রধানত দুই প্রকারে বিভক্ত, একটি হল উচ্চ তাপমাত্রা এবং উচ্চ চাপ পদ্ধতি (HPHT সিন্থেটিক ডায়মন্ড), অন্যটি হল রাসায়নিক বাষ্প জমা করার পদ্ধতি (CVD সিন্থেটিক ডায়মন্ড)।এটি প্রাকৃতিক হীরার মতো একই গ্রেডিং মান গ্রহণ করে এবং পুরো হীরা শিল্প চেইনকে একসাথে সরবরাহ করে।হীরা চাষ করা এবং খনির হীরার মধ্যে একমাত্র পার্থক্য হল উৎস, একটি পরীক্ষাগার থেকে, অন্যটি প্রকৃতি থেকে।
রাসায়নিক বাষ্প এজাহার
সিভিডি
রাসায়নিক বাষ্প জমা, বা CVD হল একটি প্রক্রিয়া যা মণি-গ্রেডের হীরার পাশাপাশি অপটিক্স এবং সেমিকন্ডাক্টর তৈরি করতে ব্যবহৃত হয়।CVD প্রক্রিয়া একটি নিয়ন্ত্রিত চেম্বারে অতি-বিশুদ্ধ কার্বন-সমৃদ্ধ গ্যাস ব্যবহার করে।
কার্বন ভিত্তিক গ্যাস, যেমন মিথেন, উত্তপ্ত হয় যতক্ষণ না তারা ভেঙে যায় এবং গ্যাসের মধ্যে থাকা কার্বন পরমাণুগুলিকে আলাদা করতে দেয়।এই ক্ষুদ্র কার্বন পরমাণুগুলি হীরার স্তরের উপর পড়ে এবং স্তরগুলি তৈরি করে যার ফলে একটি রুক্ষ হীরা স্ফটিক হয়।
ব্যক্তি যোগাযোগ: Ms. Pang
